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      2023.12.29
      芯片光刻過程中需要檢測哪些氣體
      光刻就是把芯片制作所需要的線路和功能區做出來,是一種精密的微細加工技術,芯片光刻是半導體芯片生產過程中最為復雜也是最為關鍵的環節,耗時長,成本高。光刻工藝主要有涂膠、煎烘、曝光、顯影&堅膜、刻蝕以及去膠六大步驟,這幾大步驟往往會用到危險有害氣體,為了安全起見,就需要使用芯片光刻用氣體檢測儀,下面來看看芯片光刻過程中需要檢測哪些氣體?
       
      過氧化氫是一種很強的氧化劑,若直接接觸皮膚,會引起皮膚和眼睛發炎以及灼傷等。主要用于清洗表面,去除表面的雜質和污染物,保證半導體器件的質量和性能。二甲苯是光刻負膠使用的溶劑,會揮發到環境中,當環境中的二甲苯達到1%-7%時就會有燃燒爆炸的可能,暴露在二甲苯中會引起眼睛、鼻子、喉嚨發炎等。六甲基二硅氮烷最常用來增加光刻膠在品圓表面附著力的底漆層,易燃且燃點低,6.7℃就會燃燒,環境中大的濃度達到0.8%-16%時就會有燃燒爆炸的可能。氫氧化四甲基氨是光刻的顯影劑,有毒且具有腐蝕性,吸入高濃度的該氣體會死亡。氯氣和氟氣都是光刻工藝的光源,都具有毒性,濃度過高會致死,長期接觸還會有頭痛、腹瀉等癥狀。還有氬氣、氖氣、氙氣、氪氣等稀有氣體,雖然無毒,但是濃度過大會有窒息的風險,在高溫高壓的情況下還會發生爆炸。
       
      多參數氣體檢測儀ERUN-PG71S4
      對于光刻工藝使用的氣體檢測儀,推薦西安贏潤環保生產的多參數氣體檢測儀ERUN-PG71S4,此款儀器為泵吸式設計,響應速度很快,能夠在檢測到濃度異常的第一時間發出報警信息。也能同時檢測多種氣體,互不干擾。多種報警模式可設置,滿足用戶不同需求。數據存儲容量大,防護等級高,非常適合半導體行業使用。
       
      上述即為芯片光刻過程中需要檢測哪些氣體的相關介紹,芯片光刻過程中會涉及到很多危險氣體,這些氣體對人體和環境都有不同程度的危害,為保證安全,芯片光刻用氣體檢測儀的使用不可缺少,作為氣體檢測儀的生產廠家,贏潤環保一直關注半導體行業的安全發展,不斷進行產品的迭代升級,以解決用戶需求。

       
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